荧光分布成像系统 EEM® View

荧光分布成像系统采用全新设计，可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法^*1，不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像，还可以获得不同区域的光谱图像^*1(荧光光谱、反射光谱)。

特点

什么是EEM View

新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱

• 测定样品的光谱数据（反射光谱、荧光光谱）
• 在不同光源条件（白光和单色光）下拍摄样品
  　（区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm）
• 采用AI光谱图像处理算法^＊1，能够分别显示样品荧光图像和反射图像
• 根据图像可获得不同区域的光谱信息^＊1（荧光光谱、反射光谱）

*1计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果

EEM View Analysis 界面（样品：LED电路板）

荧光分布成像系统概要

均匀的光源系统

同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱！

• 积分球漫反射使光源均匀化
• 利用积分球收集的光均匀照射样品
• 采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式

新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品，利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱，结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像，并利用独特的AI光谱图像处理算法，可以同时得到反射和荧光图像。

样品安装简单，适用于各种样品测试！

样品只需摆放到积分球上，安装十分简单！

• 板状样品：通过石英窗安装样品。
• 粉末样品：将粉末填充至样品平整夹具中，置于粉末样品池支架，或使用选配件固体样品支架中的粉末样品池安装样品。

• 校正时，需放置好荧光标准样品。
• 请使用选配的标准白板(100 %)和空白样品(0 %)进行校正。此校正工具可被应用于荧光强度、反射率校正， 以及图像不同区域的亮度分布校正